Kupfer-Titan-Legierung C19920 Messing CuTi Gerade Streifen für Architektur-Essereien

Kupfer-Titan-Legierung C19920 Messing CuTi Gerade Streifen für Architektur-Essereien

Chemische Zusammensetzung

PHYSIKALE Eigenschaften

Mechanische Eigenschaften

Biegeleistung

Verzögerungsdicke: ≤ 0,15 mm, Verzögerungsbreite: 10 mm

1. Eigenschaften:

   • Verstärkte Festigkeit und Härte im Vergleich zu reinem Kupfer
   • Gute Korrosionsbeständigkeit, insbesondere in Meeresumgebungen
   • Verbesserte Verschleiß- und Abriebsbeständigkeit
   • Moderate elektrische und thermische Leitfähigkeit
   • Gute Gießbarkeit und Schweißfähigkeit

2. Anwendungen:

   • Marine Ausrüstung und Ausrüstung
   • Ventile und Pumpen
   • Architekturhardware
   • Außenmöbel und -armaturen
   • Dekorative und zierliche Bestandteile
   • Elektrische Steckverbinder und -komponenten
   • Anwendungen im Automobil- und Industriebereich

3. Vorteile:

   • Die Zugabe von Nickel und Silizium zu Kupfer erhöht die mechanischen Eigenschaften der Legierung und macht sie für Anwendungen geeignet, die eine höhere Festigkeit und Verschleißfestigkeit erfordern.
   • Die verbesserte Korrosionsbeständigkeit von C19920 macht es zu einer geeigneten Wahl für den Einsatz in Meeres- und Außenumgebungen.
   • Die moderate elektrische und thermische Leitfähigkeit der Legierung ermöglicht ihren Einsatz in verschiedenen elektrischen und thermischen Anwendungen.
   • Die gute Gießbarkeit und Schweißbarkeit der Legierung sorgt für Flexibilität in den Herstellungs- und Herstellungsverfahren.

4. Verfügbarkeit:

   • Die Kupferlegierung C19920 ist in verschiedenen Formen, wie Stangen, Stangen, Drähten, Blättern und Gussstücken, von zahlreichen Metalllieferanten und -herstellern erhältlich.

Die Kombination aus verbesserten mechanischen Eigenschaften, verbesserter Korrosionsbeständigkeit und moderater Leitfähigkeit macht die Kupferlegierung C19920 zu einem vielseitigen Material für eine Vielzahl von Anwendungen.vor allem in der Marine, architektonische und industrielle Umgebungen.